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GSL-1100X-PJF-(A)等離子表面處理儀是一種緊湊的大氣離子表面處理噴射系統，主要由射頻發生器、離子束頭組成，噴射的離子束流能在較低的溫度和非真空條件下活化和清理材料表面（例如單晶片、光學元件、塑料等），且清理速度迅速，清理后的物品表面干凈。使材料進行預先表面處理，為獲得高質量的外延薄膜或使光學涂層得到顯著的效果做準備工作。
PCE-8等離子清洗機是一款較大型的清洗機，等離子腔體為 Φ8.5 “×12“的石英腔體，采用的射頻電源功率0 - 100W連續可調節。本機主要是通過空氣、氧氣或氬氣等氣體的等離子體來去除基片上的氧化層和污染物，同時也可改變物體表面的性質（如親水和疏水性等），對于基片的清洗以及薄膜處理是較為理想的設備。
產品簡介：PCE-6V小型等離子清洗機集成了RF等離子體發生技術、計算機控制技術、軟件編程技術，采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。工作時外接一臺真空泵，清洗腔內的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，可短時間內*清洗掉有機污染物，清洗程度可達到分子級。樣品臺可選配加熱功能，可加負偏壓，用以實現對樣品的離子蝕刻。此外，其可在特定條件下
PCE-6小型等離子清洗機的等離子腔體為 Ø160mm×190mm的石英腔體，采用的射頻電源功率為3.0MHz（1%），輸出功率7.2W、10.2W、29.6W三檔可調。本機主要是通過空氣、氧氣或氬氣等氣體的等離子體來去除基片上的氧化層和污染物，同時也可改變物體表面的性質（如親水和疏水性等），對于基片的清洗以及薄膜處理是較為理想的設備。
GSL-1100X-PJF-A等離子表面處理儀是一款緊湊的大氣離子表面處理噴射系統，主要由射頻發生器、離子束頭組成。噴射的離子束流能在較低的溫度和沒有真空條件的環境下活化和清理材料（如單晶片、光學元件、塑料等）表面雜質，且清理速度迅速。本機是為獲得高質量的外延薄膜或光學涂層進行預先表面處理的合適的工具選擇。具有一個樣品臺，將樣品固定在樣品臺上后可進行X
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