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GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀是依據(jù)二極（DC）直流濺射原理設(shè)計而成的Z簡單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備，適用于實驗室各種復(fù)合膜樣品的制備，以及非導(dǎo)體材料實驗電極的制作。

GSL-1100X-SPC-16C濺射蒸鍍膜儀配備了熱蒸發(fā)附件，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。不但可以用等離子濺射的方式鍍金屬膜，也可以用蒸發(fā)的方式得到碳或其他金屬單質(zhì)的薄膜。本機(jī)能夠滿足掃描電子顯微鏡樣品的制備和非導(dǎo)體材料實驗電極的制作，也可以用于材料研究中各種新材料性能的實驗。

GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀是依據(jù)二極（DC）直流濺射原理設(shè)計而成的Z簡單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。本機(jī)特別之處是在一個真空室內(nèi)安裝了三個靶，旋轉(zhuǎn)樣品臺可依次在同一樣品上涂覆三種材料。因此，適用于實驗室各種復(fù)合膜樣品的制備，以及非導(dǎo)體材料實驗電極的制作。

GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀是一款緊湊型的等離子濺射儀，可進(jìn)行金、鉑、銦、銀等多種金屬的濺射鍍膜，樣品直徑可達(dá)50mm，鍍膜厚度可達(dá)300?，特別適用于SEM樣品的鍍膜。

OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜（CSS）爐是一款快速蒸發(fā)管式爐，專門用于PVD或CSS法制作薄膜；其爐管外徑為11″，爐管內(nèi)載樣盤可放置3″ 的圓形或2″×2″的方形基片；加熱元件為兩組紅外燈管，分別安裝在腔體頂端和底部，升溫速率高達(dá)20℃/s ；溫控系統(tǒng)采用PID30段程序化控制，控溫精度為±1℃，并且儀器面板上帶有RS485接口，若儀表內(nèi)配有控溫軟件，就可將升溫程序和曲線導(dǎo)出。

GSL-1800X-ZF2蒸發(fā)鍍膜儀主要應(yīng)用于大專院校、科研機(jī)構(gòu)、企業(yè)實驗室及微小產(chǎn)品進(jìn)行真空鍍膜等真空處理的工藝研究、樣板試制、操作培訓(xùn)和生產(chǎn)。