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VTC-16-SM小型高能直流磁控濺射儀是一款桌面式等離子磁控濺射鍍膜儀，包含一個2英寸水冷靶頭（另有1英寸靶頭可選）和可旋轉樣品臺。水冷靶頭使鍍膜后的樣品表面不會因鍍膜溫度過高而變形，甚至損壞樣品；樣品臺可旋轉，可以使樣品邊旋轉邊鍍膜，使鍍膜后的樣品表面膜厚均勻。設備外形小巧，性價比高，是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜設備，可選配各種金屬靶材和真空泵搭配設備使用。VTC-16-SM小型高能

鈣鈦礦鍍膜機主要由有機/金屬源蒸發沉積室、真空排氣系統、真空測量系統、蒸發源、樣品加熱控溫、電控系統、配氣系統等部分組成。適用于制備金屬單質薄膜、半導體薄膜、氧化物薄膜、有機薄膜等，可用于科研單位進行新材料、新工藝薄膜研究工作，也可用于大批量生產前的試驗工作，廣泛應用于有機、無機、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、OLED等研究領域。

GSL-1700X-SPC-2小型程序控溫蒸發鍍膜儀可設定程序，并精確控制溫度200ºC-1500ºC（或者1200ºC-1700ºC），Z大可蒸鍍直徑2“的薄膜樣品，樣品臺可旋轉，以獲得更均勻的薄膜。可制備各種金屬薄膜和有機物薄膜，廣泛用于電極的制備和有機物發光LED。