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VTC-100ML多層鈣鈦礦旋轉涂層機

簡要描述:VTC-100ML多層鈣鈦礦旋轉涂層機適用于鈣鈦礦材料的涂膜,半導體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。本機實現滴膠、旋涂、烘干的整個過程自動完成

  • 產品型號:
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2024-03-30
  • 訪  問  量:1010

詳細介紹

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IMG_256VTC-100ML多層鈣鈦礦旋轉涂層機適用于鈣鈦礦材料的涂膜,半導體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。本機實現滴膠、旋涂、烘干的整個過程自動完成;可同時交替涂覆兩種薄膜,兩種液體各交替最多500次,實現千層薄膜的涂覆。本機可用于酸、堿性涂覆溶液的涂膜制備。設備標配不同尺寸的真空吸盤,可根據樣品尺寸不同選擇不同的真空吸盤,利用真空吸附的方式固定基片。該機主要應用于各大專院校、科研院所的實驗室中進行薄膜的生成過程。
IMG_2571、真空吸附方式固定樣件,操作簡便。
2、根據樣件規格可以配用不同的吸盤,且更換方便簡單。
3、電機采用24V直流無刷電機,可靠性高,適應性強,維修與保養簡單,噪音低,震動小,運轉平穩,啟動快速穩定,加速后運行平穩,可以保證涂層厚度的一致性和均勻性。
4、采用無油真空泵,體積小巧、結構簡單、操作容易、維護方便、不會污染環境等優點。
5、腔體采用聚四氟乙烯材質,使用壽命更長,耐化學腐蝕性和優異的抗應力開裂性能;機身采用鈑金結構,結實耐用且質輕。
6、加熱后可通氣體進行快速冷卻。
7、中文操作界面(全英文操作系統可選)
8、具有開蓋保護功能,當涂膜過程中或涂膜結束時打開上蓋后機器立刻迅速減速直到停止。
9、控制界面采用觸摸屏控制,操作簡單方便,顯示直觀。
10、全自動的涂膜過程:自動滴膠、自動通氣、自動旋涂、自動烘干。
11、可兩種液體交替涂膜,最多可涂1000層薄膜。
IMG_258

產品名稱

VVTC-100ML多層鈣鈦礦旋轉涂層機

產品型號

VTC-100ML

安裝條件

1、溫濕度:10-85%RH (at 25℃ 無凝露) 溫度: 0-45℃。
2、設備周圍無強烈震源和腐蝕氣體。 
3、水:需排污下水
4、電:單相:AC220V 50Hz 國標三極插座 10A 必須有良好接地
5、氣:①樣品盤:真空負壓(真空泵) 抽氣流量不小于 70L/M
           ②冷卻:壓縮氣體或自行規定的惰性氣體
6、工作臺 建議 1500X600X700mm 承重 100KG 以上(固體水泥臺最佳)
7、通風裝置:無特殊要求

主要參數

1、涂膜機供電 DC 24V 15A(標配“電源適配器")
2、滴料器供電 DC 24V 15A(標配“電源適配器")
3、加熱供電 獨立供電:AC220V 50Hz
4、總功率 ≤350W(不含加熱與外接真空泵)
5、加熱功率 1350W
6、加熱溫度 最高溫度:RT~200℃
7、控溫精度 ±2℃
8、加熱方式 輻射烘烤加熱(碳纖維加熱管)
9、控制方式 PLC 編程器+觸摸屏
10、涂膜主機腔體(材質):聚四氟乙烯
11、載樣盤(吸盤):聚四氟真空吸盤和鋁制吸盤:各一套(1 英寸、2 英寸、4 英寸)(加熱時請使用聚四氟吸盤,鋁制吸盤導熱快勿使用)
12、真空壓力顯示 電子式數顯壓力傳感器(數顯真空壓力表)低壓型:-100~100kPa
13、涂膜運行方式 包含兩組程序:A、B 組、組循環可達 500 次,每組程序分為六段運行
14、涂膜轉速 500~10000rpm(任意整數設置,最小增量為 1rpm)
15、增減速率 每段增減速設置范圍:10~2000rpm(增量為 10 的整數倍)
16、轉速穩定性 ±1%
17、加料方式 滴料器---精準定量滴液:搭配平口針頭

產品規格       

18、產品規格:
·尺寸:·尺寸:
主機:450mmX400mmX580mm 
加熱控制箱:360mmX400mmX130mm
滴料器:270mmX310mmX280mm
·重量:40kg

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序號

名稱

數量

圖片鏈接

1

真空吸盤(含O型圈)

6個(?25.4mm、?50.8mm、?101.6mm)

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2

中心定位器

3個

-

3

滴膠注射器(20ml)

2個

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4

微量蠕動泵

1套

-

5

無油真空泵

1臺

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IMG_266 

序號

名稱

功能類別

圖片鏈接

1

 

其它尺寸的真空吸盤

 

(可選)

IMG_268 

2

靜音無油空氣壓縮機

 

(可選)

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