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| 品牌 | 其他品牌 | 價格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 產地類別 | 國產 | 應用領域 | 綜合 |
VTC-600G高真空磁控濺射儀是新自主研制開發的鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600G高真空磁控濺射儀可選配多個靶槍，配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備，特別適用于實驗室研究固態電解質及OLED等。
可選配多個靶槍，配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜（靶槍可以根據客戶需要任意調換）。
可制備多種薄膜，應用廣泛。
體積小，操作簡便。
整機模塊化設計，真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設計，可根據用戶實際需要調整。
可根據用戶實際需要選擇電源，可以一個電源控制多個靶槍，也可多個電源單一控制靶槍。
| 產品名稱 | VTC-600G高真空磁控濺射儀 | |
| 產品型號 | VTC-600G | |
| 主要參數 | 1、結構：臺式前開門結構，后置抽氣系統。 2、極限真空：6.0X10-5Pa。 3、漏率：1h≤0.5Pa。 4、抽氣時間大氣至5.0X10-3約20分鐘。 5、真空泵組：機械泵+分子泵。 6、樣品臺:φ140、室溫-500℃、精度±1℃ （可根據實際需要提升溫度） 自轉5rpm-20rpm內可調。 可根據客戶需求選配加裝偏壓功能， 以實現更高質量的鍍膜。 7、加氣系統：質量流量計2路。 （氬氣/氮氣各一路） 8、靶頭與樣品臺中軸線夾角為34° 9、靶頭數量：3個（互成120°）。 10、 靶槍冷卻方式：水冷 11、靶材尺寸：φ2″，厚度0.1-5mm （因靶材材質不同厚度有所不同） | |
| 產品規格 | 12、產品規格：
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| 序號 | 名稱 | 功能類別 | 圖片鏈接 |
| 1 | 樣品臺擋板 | （可選） |  |
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